日本TOTO投资600亿日元新建半导体陶瓷部件生产设施

   2026-11-02 5
核心提示:日本TOTO株式会社10月30日宣布,计划投资约600亿日元,在福冈县丰前市现有工厂内新建半导体设备用陶瓷部件生产楼。新设施建筑面积约1.2万平方米,总建筑面积约3.6万平方米,主要生产下一代静电吸盘及AD陶瓷膜部件,预计2029财年上半年开始生产。企业还将在大分县中津市两处工厂追加约110亿日元设备投资。

以卫浴设备闻名的日本TOTO,正在进一步扩大半导体制造设备关键零部件业务。

10月30日,TOTO株式会社公布新的陶瓷业务投资计划,决定在福冈县丰前市的TOTO Fine Ceramics丰前工厂内建设一座生产楼,专门制造面向先进半导体设备的下一代静电吸盘及AD陶瓷膜部件。项目投资约600亿日元,预计2029财年上半年开始生产。

新生产楼采用三层钢结构设计,建筑占地面积约1.2万平方米,总建筑面积约3.6万平方米。按照TOTO公布的建设规模,这将成为公司陶瓷业务迄今最大的生产建筑。

TOTO的半导体陶瓷业务并非刚刚起步。公司长期利用精密陶瓷材料及加工技术,为半导体制造设备提供关键部件。此次投资面向的是下一代产品,重点不只是扩大现有零部件的供应数量,还要为新的产品规格建立量产条件。

其中,静电吸盘主要安装在半导体刻蚀设备内部,用于固定硅晶圆。刻蚀过程中,设备需要利用等离子体对晶圆进行加工,静电吸盘不仅承担晶圆固定任务,其陶瓷结构还要经受相应的工艺环境。

随着先进存储芯片向更多堆叠层数发展,部分刻蚀工艺对设备内部部件的耐等离子体侵蚀性能提出了更高要求。TOTO正在开发的下一代静电吸盘,将继续围绕材料耐久性及产品功能进行改进。

另一项重点产品是AD部件。AD是气溶胶沉积技术(Aerosol Deposition)的简称,其工艺利用高速运动的陶瓷微粒在基材表面形成致密薄膜。与需要经过高温烧结形成陶瓷结构的传统制造方法不同,AD成膜可以在常温环境下进行。

这种陶瓷膜可以用于半导体刻蚀设备内部的相关部件,提高表面对等离子体侵蚀的抵抗能力,减少设备内部材料劣化造成的颗粒污染。TOTO已经将相关技术应用于半导体设备领域,新投资将进一步支持下一代AD产品制造。

除丰前工厂外,TOTO还计划在大分县中津市两处现有生产基地增加AD部件制造设备,分别涉及TOTO Sanitechno本社·中津工厂以及TOTO Fine Ceramics本社·中津工厂。

两处工厂的新增设备投资约110亿日元,计划在2028财年内开始生产,比丰前新生产楼的规划投产时间更早。

需要注意,这110亿日元属于TOTO此前公布的陶瓷业务成长投资计划的一部分。随着相关烧成设施、研发设施和新增设备投资计划进一步明确,原先约300亿日元的投资安排已调整为约330亿日元。丰前工厂此次约600亿日元的新生产设施投资则属于另一项大规模扩产安排,不能把110亿日元重复计算到原有投资总额之外。

从生产基地布局看,丰前新设施将同时承担下一代静电吸盘与AD部件制造,中津两处工厂则重点增加AD部件的生产能力。不同生产基地的具体设备配置和产能分配尚未公开。

本次公告没有披露新生产楼的正式开工日期、预计年产数量及生产设备采购清单,也未说明新设施计划采用哪些工业控制系统或精密加工设备。

TOTO将丰前工厂的规划生产时间确定在2029财年上半年,中津两处工厂则安排在2028财年内开始相关产品生产。新设施建成后,企业在日本的半导体陶瓷部件制造业务将进一步覆盖下一代产品的规模化生产。


 
 
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