中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机，特别是 EUV (极紫外光源)光刻机，不过ASML对这个机器是不放行的，主要是美国强制要求。
EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，由于采用了极紫外线，它的最小工业节点到了 22nm-7nm，可以说是世界上最先进的光刻机设备——而这种设备，只有ASML能造出来。
第一代DMS基于恩智浦开放视觉平台S32V2，并结合了Momenta的深度学习技术，无论是在优化、加速神经网络，还是减少占用CPU计算资源方面都有很大的提升，在使驾驶员监控系统具备高效性能的同时降低了商用成本。
2018年4月，中芯国际向ASML订购了一台 EUV 光刻机，价值1.2亿美元(约合人民币8亿元)，预计2019年年初交货。后来此事被报道后，ASML回应称，对包括 中国客户在内的全球客户都一视同仁，且向中国出售EUV光刻机并没有违反《瓦森纳协定》。当时，荷兰政府的确向 ASML 发放了出口许可证。
不过，最终这个交易也没有形成，根据知情人士的说法，美国立即盯上了这笔交易——接下来的几个月里，美方官员至少四次与荷兰官员开会，讨论可否直接封杀这笔交易。
对于用户而言，最为关注半导体芯片企业产品的性能与功耗。在这一方面，恩智浦充分发挥技术优势，针对中国市场，研发了面向边缘计算、可穿戴市场以及工控、汽车等领域的多套相关产品，极大拓宽了应用领域。
此后，关于 EUV 光刻机向中国出口，ASML 的说法一直是：公司仍在等待新许可证申请的批准。
在这之前，ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况，其表示一些情况下，出口光刻机是不需要许可证的。
DMS与高级辅助驾驶系统（ADAS）有着紧密的关系，尤其是对L3及以上的高度自动驾驶技术至关重要。该方案利用视觉监控技术结合深度学习算法，检测分析驾驶员行为，在必要时发出碰撞警告。欧洲计划2020前将驾驶员监控系统纳入到新车评价规程中。
Roger Dassen指出，ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释，当然也知道这些与特定的中国客户密切相关，但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户)，则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统，且无需出口许可证。
日前，恩智浦在北京正式发布了i.MX RT1010跨界处理器和i.MX 7ULP超低功耗产品。这两款产品各具特色。其中，i.MXRT1010采用中芯国际位于北京亦庄的40nm工艺生产线制造，其公开售价仅为1美元。而这颗MCU芯片却可以做到高达500MHz的频率。据官方资料显示，i.MXRT1010性能方面已相当于Intel初代奔腾处理器。其可根据需要，被用于众多需要强大且节能的终端设备中，如汽车电子和工业领域应用。
美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等，但并没有限制其他国家对中国进口，荷兰并不在美国的禁令范围内。
在中国信息化百人会2020年峰会上，华为消费者业务CEO余承东也遗憾宣告，华为麒麟芯片将成”绝版“，“很遗憾在半导体制造方面，(华为)只是做了芯片的设计，没搞芯片的制造，华为今年秋天将会上市搭载麒麟9000芯片的Mate40”，“今年可能是我们最后一代华为麒麟高端芯片”。
据了解，恩智浦半导体是全球前十大半导体公司，前身为飞利浦半导体，由荷兰企业飞利浦在1953年创立。2006年8月31日，该公司首席执行官万豪敦在柏林向客户和员工公布更改公司名称。恩智浦半导体目前可提供半导体、系统和软件解决方案；使用在汽车、手机、智能识别应用、电视、机上盒以及其他电子设备上。
不过上述事情还是迎来了一些转机，媒体36氪给出的报道称，一位接近华为内部的消息人士表示，高通已经得到供货华为许可，这意味着华为旗下P、Mate 高端系列芯片“卡脖子”的困境将被缓解。
Momenta方面表示，借助恩智浦S32V2平台的硬件架构和AI技术支持，可使其深度学习软件和算法能够以低功耗的方式在汽车级的芯片上实现快速部署。恩智浦和Momenta希望能和更多的汽车制造商合作，以便DMS广泛应用到汽车上。接下来，双方还将就下一代自动驾驶解决方案进行合作。
如果真是这样的话，即便台积电依然不能合作，华为也可以暂时让自家的Mate和P系列使用高通骁龙处理器，届时我们也可能看到搭载麒麟875版本的P50、Mate40之类的....
7月29日，恩智浦半导体发布2019年第二季度财务报告。报告称，季度期内，公司实现营收22.17亿美元，同比微跌3.19%。另外，NXP宣布，已于5月29日，以17.6亿美元收购迈威尔（Marvell）的无线连接业务。
11 月5 日，高通在第四季度财报中对外确认，已经收到华为一次性付清的18亿美元款项，用以支付专利费，同时高通表示，已正式提交了华为供货许可的申请。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机，分为干分式与液浸式两种。其中，液浸式于ASML手中诞生，其波长虽然有193nm，但等效为134nm，经过多重曝光后，液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是，每多一次曝光都会使得制造成本大大提升，而且良品率也难以控制。
恩智浦高级驾驶辅助系统解决方案副总裁兼总经理Kamal Khouri称，将Momenta的深度学习软件与其S32V2平台结合，可形成完美的DMS应用解决方案，该方案旨在提升道路交通安全。
EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说，就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代，但如果没有ASML的EUV光刻机，芯片巨头台积电、三星、Intel的5nm产线就无法投产。
