日本三洋电机公司和三洋AQUA技术公司日前联合开发成功了污水处理设备“Slurry Closer”，用于对半导体工厂生产工序中排放的污水进行低成本处理。 

  “Slurry Closer”主要用于对从化学机械研磨（CMP）工序（）中排放的污水进行处理，CMP工序是指利用砂布对硅晶片表面进行研磨，由于使用含有金钢砂的研浆作为研磨剂，因此排出的污水中含有直径在数十纳米以下的金钢砂和从硅晶片表面研磨下来的碎屑。

  这种废水过去与其他半导体制造工序中的废水一样，通过凝聚沉淀和过滤进行处理。但是，由于必须使用大量的凝聚剂，而且过滤器也会形成网眼堵塞，因此作业效率低、成本高。 

  三洋电机等公司此次利用浸渍式平板膜自主开发出超低压过滤技术。在过滤器上利用CMP排水生成凝胶层，能够高效而正确地使其分离成水和粒子。不仅处理成本大幅降低，而且还能够回收到有可能当作回收资源来使用的粒子。 

  三洋电机等公司今后将与日本东北大学多元物质科学研究所的中村崇教授共同对回收的固体粒子的再利用及其用途进行开发。