近年来,阿斯麦(ASML)的TwinscanNXEEUV光刻机已经取得了长足进步,改善了光源性能、可用时间、以及生产力。
遗憾的是,EUV掩膜部分仍面临量产前的巨大挑战。且除了台积电,三星半导体也被迫寻找在供应缺乏下的EUV替代制造工艺。
芯片制造中使用的掩膜材料(通常为6×6英寸),能够将可能落于基材表面上的颗粒隔离开,从而对芯片生产线上的晶圆提供额外的保护。
机器视觉产业链的上游为光学设备等硬件和图像处理软件是机器视觉产业的基础;中游制造是机器视觉产业链的核心,分为设备制造环节和系统集成环节;下游应用领域主要为包装、人工智能、交通、医药、半导体、金属加工等行业。
机器视觉产业链上游为硬件造和软件,目前我国在镜头、工业相机等硬件和图像处理、算法等方面已经成熟,但目前国内仍缺少拥有完整产业链的企业,这也导致了部分下游行业会选择拥有软硬件全套方案的外企康耐视和基恩士。
从我国机器视觉产业链中上游续存企业的分布情况可以看出机器视觉中上游制造企业较多分布于广东、北京、江苏、安徽等地区。
尽管机器视觉企业大多分布在广东,但产业链中上游的前沿企业大多位于北京,例如,上游工业相机等机器视觉设备的龙头凌云光、大恒集团、微视科技等;而广东相较北京在产业链中上游系统集成、算法等软件方面的布局更加完善,除中兴、商汤等人工智能大厂外还拥有大族激光、奥普特等设备制造商。
早在2019年,ASML就已经突出了首款EVU掩膜,并将技术授权给了三井化学。后者计划于2021年2季度开始量产销售,且ASML方面也未停止持续改进。
不过SemiconductorEngineering指出,迄今为止,只有ASML推出了在商业上切实可行的EUV掩膜(基于50nm厚度的多晶硅)。
早在2016年,该公司就展示了在模拟的175W光源上实现的78%透射率,且当前已在出售效率高达88%的新一代掩膜。相信不久后,三井化学就会大量供应此类掩膜。
我们现在是“5G年”的第三个年头。“但说真的,今年应该是真正的5G年!”多年的营销炒作导致了这一令人兴奋的新移动技术的许多错误开始。但随着预算在2021年得到释放,我们已经准备好看到下一代低延迟移动技术基础设施的最终爆发,它提供了一系列新的服务和应用,从实时商业分析到连接拖拉机拖车。
过去几个月的几项进展,包括北美主要运营商在c波段拍卖频段上的支出超过1000亿美元,以及威瑞森(Verizon)和T-Mobile等公司增加的资本支出预算,都表明他们正在投入真正的资金。例如,威瑞森公司表示,它预计在未来三年(每年)将花费100亿美元超过其普通资本支出。威瑞森计划在未来12个月在46个市场增加5G,为1亿用户提供服务。
更重要的是,在新冠肺炎大流行危机的阴影下,经济环境有利于5G。全球经济正在复苏,各国政府都在推出刺激措施。利率可能会在一段时间内保持在低位,有利于投资。去年的危机还引发了一波技术评估浪潮,主要行业要适应关闭和远程工作。所有这些都表明,对数字转型技术的投资正在加速,5G将在其中发挥关键作用。